2024年深冬的临港，海风裹着咸湿的寒意钻进衣领，追光基地的地下实验室里却热得像盛夏。
追光四号原型机的整机联调，已经到了最关键的时刻。
这台 0.75数值孔径（NA）的超高 NA EUV光刻机，是全球第二台同级别原型设备，也是国内第一台。整机高度超过十米，由十几万颗零件组成，从光源、物镜到掩模台、工件台，每一个核心部件，都是百分之百全国产。
项目总负责人是郑浩。
当年那个跟着林若溪做光刻补偿算法的年轻工程师，现在已经是计算光刻领域的领军人物，带着团队啃下了追光二号、三号的算法难关。这一次，他牵头追光四号的整机光学联调，压力可想而知。
“还是不行。”
凌晨两点，光学检测室里，郑浩盯着波前误差的检测曲线，眼睛里布满红血丝，嘴角起了好几个水泡，“偏振效应压不住，标量补偿模型完全失效，波前误差卡在 0.12nm，死活下不去。”
旁边的工程师们都沉默着。
所有人都知道，超高 NA EUV最大的难点，就是偏振效应。当数值孔径升到 0.75，极紫外光的大角度入射会导致强烈的偏振相关像差，传统基于标量衍射理论的补偿算法彻底失灵。这不是靠“多调几次参数”就能解决的，是底层模型的问题。
团队熬了整整三十六天，改了十七版模型，试了上百种补偿方案，波前误差始终离 0.05nm的设计目标差一大截。
“要不……先降 NA？”有人小声提议，“降到 0.6，偏振效应就小多了，至少能先出光。”
“不行。”郑浩立刻摇头，语气很坚决，“0.6NA撑不起 1nm工艺。追光四号的目标就是 1nm节点，不能降标准。现在降了，以后还要再走一遍弯路。”
话说得硬，可他心里也压着一块巨石。
追光计划走到今天，全行业都在看着。高 NA EUV是 1nm工艺的核心，卡在这里，整个 1nm节点的进度都要拖后。
正发愁，实验室门被轻轻推开。
林若溪走了进来，手里拎着保温桶，里面是温热的粥。她现在是公司首席科学家，不用再盯一线研发，但追光四号联调的关键期，她还是每天都过来看看。
“先歇会儿，吃点东西。”她把粥放在桌上，目光扫过屏幕上的波前曲线，“还卡在偏振上？”
郑浩点点头，语气带着挫败：“林总，标量模型的路走死了。我试过引入偏振参数，可变量太多，模型收敛不了。”
林若溪拿起检测报告翻了翻，指尖在“偏振响应”那一行停住：“别死盯着标量模型改。把矢量光学的框架搭起来，把多层膜反射镜的偏振响应、入射光的偏振态，全部纳入数字孪生系统。偏振不是干扰项，是可以主动调控的。”
“矢量光学建模？”郑浩眼睛一亮，随即又皱起眉，“可是计算量太大了，一次仿真要跑十几个小时，根本没法迭代。”
“把 AI和物理模型结合起来。”林若溪语气平静，“用矢量光学模型生成基础数据，训练轻量化的 AI代理模型，兼顾精度和速度。之前我们做高 NA物镜数字孪生的时候，用过类似的思路。”
一句话点醒了郑浩。
他之前总想着用纯物理模型硬算，反倒忘了星尘最擅长的“物理模型+ AI加速”的老路子。
“我知道了！”他瞬间来了精神，也顾不上喝粥了，转身就往工位走，“我这就重构模型框架！”
林若溪看着他的背影，笑了笑，把保温桶往旁边推了推，也坐下来跟着一起看数据。
接下来的一周，整个团队进入了连轴转的状态。
矢量光学基础模型的搭建、数据集的生成、AI代理模型的训练，每一步都难。为了生成足够的训练数据，团队调用了星海智算中心的上千张加速卡，连续跑了三天三夜，生成了五百万组偏振-像差对应数据。
模型迭代到第二十三版的时候，仿真精度终于达标了。
联调测试那天，周建民院士、张磊、贺荣明都到了现场。老人穿着无尘服，站在观察窗旁，背着手微微前倾，眼睛一眨不眨地盯着物镜舱。
“各系统就绪，准备首光测试。”
现场指挥的声音落下，所有指示灯依次变绿。
光源舱里，高功率脉冲激光精准轰击在锡液滴上，极紫外光瞬间迸发，经过收集镜、照明系统、反射式掩模、超高 NA缩束物镜，十几片多层膜反射镜辗转反射，最终汇聚成极细的光束，落在晶圆台的光刻胶上。
时间一分一秒过去。
所有人都屏住了呼吸，连呼吸都放得很轻。
检测系统的进度条一点点往前走，波前误差、分辨率、焦深……一组组数据陆续跳出来。
当最终的检测结果完整呈现在大屏幕上时，实验室里安静了足足三秒。
波前误差：0.038nm最高分辨率：0.72nm套刻精度：0.45nm
所有核心指标，全部达到并超过设计标准。
“成了……”
不知是谁喃喃了一句，随即，压抑的欢呼在实验室里炸开。
周建民院士摘下老花镜，用袖口擦了擦镜片，又戴上，凑到屏幕前反复看，嘴角抖了半天，只说出一句：“好……好啊……”
张磊攥着拳头，指节都泛白了。从当年第一台 32W的 DPP光源原型，到今天追光四号的 350W高功率 LPP光源，十几年光阴，无数个熬在地下实验室的日夜，都值了。
贺荣明拍着郑浩的肩膀，笑得眼角皱纹都挤在了一起：“小子，可以啊！比我们当年追光二号首光，进度快多了！”
郑浩站在原地，看着屏幕上的数字，眼眶有点发热。
他想起十几年前，刚进公司的时候，第一次跟着林若溪去上微的实验室，看着 90nm光刻机改造，心里满是崇拜和向往。
那时候他想，什么时候自己也能参与最顶尖的光刻机研发。
现在，他做到了。
不仅参与了，还牵头完成了超高 NA EUV的光学联调。
一代人有一代人的长征，而他们这代人，接过了前辈的接力棒，跑得更快、更远。
追光四号首光成功的消息，在产业内部低调传开。
没有大肆宣传，可所有从业者都清楚这意味着什么——中国成为全球第二个掌握超高 NA EUV光刻技术的国家，1nm工艺的设备底座，彻底夯实了。
西方媒体起初还质疑“数据造假”，直到陆续有产业链的消息流出，才不得不承认：中国半导体的追赶速度，远超他们的预判。
有人又开始叫嚣“新一轮封锁”，可业内人都明白，现在再谈封锁，已经晚了。
从设备到材料，从 EDA到制造，从逻辑芯片到功率器件，我们已经建起了完整的产业闭环。你禁你的，我做我的，封锁只会让我们迭代得更快。
两周后，1nm CFET工艺首轮全流程流片，在星海六期实验线正式下线。
林浩作为项目负责人，站在检测室外，手心微微出汗。
这个二十九岁的年轻人，从入职起就泡在前沿器件实验室，从 GAA做到 CFET，是新生代里的技术尖刀。可 1nm首流片的压力，还是让他连续失眠了好几天。
“别紧张。”周宇站在他身边，语气轻松，“当年 2nm首测才 8.1%，你只要能到 10%，就算赢。”
林浩笑了笑，点点头，眼睛还是死死盯着屏幕。
检测进度条走到尽头，数据跳了出来：
功能良率：11.7%器件密度：较 2nm GAA提升 122%核心性能参数：全部达标
“11.7%！”林浩攥紧了拳头，悬了几个月的心终于落地。
虽然离量产还很远，但这个数字，已经足够证明——全国产 1nm CFET工艺路线，是完全走得通的。
陆承远也在，老人头发全白了，精神却很好，看着数据连连点头：“好啊，比我们当年强多了。长江后浪推前浪，以后的路，就看你们年轻人的了。”
林浩挠挠头，有点不好意思：“都是前辈们底子打得好。我们就是站在巨人肩膀上。”
众人都笑了。
一句“站在巨人肩膀上”，道尽了十八年的技术传承。
从 130nm到 1nm，从六个人的创业团队到几万研发人员，从被全面封锁到全链自主，一代又一代技术人，踩着前辈的脚印，带着新的思路，一步步往上走，往前闯。
没有捷径，没有奇迹，只有代代相传的韧劲和不服输的劲。
跨年那天，叶枫和老伙伴们登上了临港基地的观景台。
远处是东海的波涛，脚下是灯火通明的科研基地，地下实验室里，追光四号还在做下一轮测试；远处的产业园里，产线昼夜不停；更远处的城市，万家灯火。
“十八年了。”陈景明叹了口气，“从 130nm到 1nm，好像就在昨天。”
贺荣明笑着接话：“这才哪到哪。追光四号只是原型机，以后还有量产型，还有更高 NA的，还有下一代的下一代。”
林若溪望着远处的星光，轻声说：“年轻人成长起来了。以后的路，他们能走好。”
叶枫点点头，没说话。
十八年前，他重生在华清校园，带着前世的遗憾和不甘，一头扎进了半导体这条漫漫长路。
十八年后，设备、材料、EDA、制造、封装、标准、生态，所有被卡过脖子的环节，全都一一补上了。从追赶到并跑，从受制于人到自主可控，他们用十八年，走完了别人几十年的路。
可他知道，这不是终点。
1nm之后，还有 0.5nm，还有更前沿的器件结构，还有量子计算、光子计算等全新的赛道。
追光之路，从来没有终点。
但他不再像当年那样忐忑不安。
因为他知道，身后有整条产业链，有代代传承的技术人，有亿万支持国产的用户。
只要追光的人还在，脚步就不会停。
新年的钟声敲响，远处的城市炸开了烟花。
绚烂的光映在每个人脸上，温暖又明亮。
新的一年，新的征程。